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方正核心专利入选首届全国杰出专利发明展

发布时间:2007/10/9 14:39:11 来源:糖酒快讯  浏览次数:770
      由国家知识产权局、中国科学院、中国工程院、中国科协等四家单位联合指导支持,中国专利保护协会、中国科技馆承办的“首届全国杰出专利发明展”于9月30日在中国科技馆隆重开幕,方正电子的激光照排技术、飞腾创艺5.0排版软件以及方正字库光荣入选参与展出。本次展会展出项目共124项,是国家知识产权局、中国科学院、中国工程院、中国科协四部委联合从2005年8月和2007年5月两次在全国范围内开展“评审全国杰出专利工程技术及展示活动”中评选出来的。 
   
      展会开幕当天,全国人大常委会副委员长、中国科学院院长、党组书记路甬祥、国家知识产权局副局长张勤、中国工程院副院长杜祥琬、中国科学院秘书长李志刚、中科院计划财务局副局长张丽萍等有关国家有关部门领导亲临方正技术展位并详细观看了工作人员的演示,王选院士夫人陈??教授也来到展位现场进行参观指导。 
   
      这次展览是我国自1985年建立专利制度以来首次以专利发明和创新为主题,大规模集中展示我国自主知识产权的杰出专利技术成果的活动,显示了我国建立专利制度以来所涌现出的杰出的专利工程技术和成功的产业化科技项目对我国社会、经济生活的巨大推动作用。方正电子多项技术的入选也体现了方正在自主知识产权方面拥有的深厚技术积累及其对国家和社会产生积极贡献。展会在2007年9月30日——10月10日期间进行集中展示,同时将从9月30日持续到1月25日。


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